濕法清洗設(shè)備

      ACM主要開展半導(dǎo)體設(shè)備研究、開發(fā)、設(shè)計(jì)、制造、銷售以及售后服務(wù)等業(yè)務(wù)，專注于濕法工藝設(shè)備，包括：無(wú)應(yīng)力拋光設(shè)備，電化學(xué)鍍銅設(shè)備和單片兆聲清洗設(shè)備。盛美半導(dǎo)體設(shè)備設(shè)備擁有完善的自主產(chǎn)權(quán)和相關(guān)專利，目前申請(qǐng)超過(guò)140項(xiàng)國(guó)際及國(guó)內(nèi)專利，并有超過(guò)60項(xiàng)已獲得授權(quán)。