濕法清洗設(shè)備

      ACM主要開展半導體設(shè)備研究、開發(fā)、設(shè)計、制造、銷售以及售后服務等業(yè)務，專注于濕法工藝設(shè)備，包括：無應力拋光設(shè)備，電化學鍍銅設(shè)備和單片兆聲清洗設(shè)備。盛美半導體設(shè)備設(shè)備擁有完善的自主產(chǎn)權(quán)和相關(guān)專利，目前申請超過140項國際及國內(nèi)專利，并有超過60項已獲得授權(quán)。